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Qu'est-ce que le Nano bore dopé Si Silicon poudre de nitrure de gallium en poudre - Version imprimable

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Qu'est-ce que le Nano bore dopé Si Silicon poudre de nitrure de gallium en poudre - ayoyopewes - 04-28-2020

Caractéristique de la poudre de silicium Si dopée au nano bore
1. Les films de nanosilicium hydrogéné dopé au phosphore et au bore (nc-Si: H) ont des propriétés uniques telles qu'une conductivité élevée, l'électroluminescence et la photoluminescence à température ambiante
2. (Le phosphore dopé, le film nc2Si: H a un coefficient d'absorption optique élevé, la bande interdite optique entre 1,73-1,78eV et la conductivité intrinsèque du film mince nc2Si: H dopé dc2Si: H de 0,1-10Ω-1 Cm-1, que le nc2Si intrinsèque: H augmenté de deux ordres de grandeur) peut être appliqué aux champs VLSI, solaires, batteries au lithium, biomédicaux et autres.

3. La distribution des tailles est uniforme et la taille est contrôlable.
4. La quantité de dopage de B est contrôlée (2,5%, 5%, 7,5%, 10%).
5. Le bore forme une liaison Si-P avec le silicium dans les particules de silicium et est réparti uniformément.
6. Les particules sont cristallines.

 

Application de poudre de silicium Si dopé au nano bore
1. Matériau d'anode de batterie au lithium-ion
2. Étiquettes fluorescentes, matériaux biomédicaux
3. Matériaux solaires photovoltaïques
4. Matériaux luminescents à base de silicium


Ajouter: Salle 410, Centre d’invasion de la technologie de service de Chuangye, NO.10 Yanguang Road,
         District de Gaoxin, zone de libre-échange pilote de la région de Luoyang en Chine

Tél: 86-379-64281838
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